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He离子注入引起的高纯钨硬化

崔明焕 , 王志光 , 姚存峰 , 申铁龙 , 李炳生 , 庞立龙 , 金运范 , 李锦钰 , 朱亚滨 , 孙建荣

原子核物理评论 doi:10.11804/NuclPhysRev.30.02.206

完成了不同注量或温度下100 keV的He离子注入高纯钨的实验,并利用纳米压痕技术测量了材料的微观力学性能。所有注入样品的纳米硬度值都高于未注入样品的纳米硬度值。对于室温注入样品,随着注量的增加,样品抗弹性变形能力下降;当注量不高于5×1017 ions/cm2时,钨的纳米硬度峰值随着注量的增加而增加;注量为1×1018 ions/cm2的钨样品的纳米硬度峰值反而降低。高温注入样品的抗弹性变形能力优于室温注入样品的抗弹性变形能力;随着注入温度的增加,样品的平均纳米硬度值和弹性模量略有下降。分析讨论了He注入钨硬化和抗弹性形变能力降低的可能原因。

关键词: He注入 , 高纯钨 , 纳米压痕 , 表面硬化

电感耦合等离子体质谱法测定高纯钨中26种痕量杂质元素

张颖 , 熊静

硬质合金 doi:10.3969/j.issn.1003-7292.2014.05.008

采用电感耦合等离子体质谱法(ICP-MS)测定高纯钨中26种痕量杂质元素,讨论了溶样方式,研究了质谱干扰和钨基体效应,应用屏蔽炬技术消除56ArO+等多原子离子对Fe、Ca、K等元素的干扰,采用在线样品标准加入法消除基体效应.各元素的方法检出限(15σ)为0.03~0.45μg/g,对样品加标0.5μg/g的回收率在88%~116%之间.方法适用于纯度为99.999%的高纯钨中痕量杂质元素的测定.

关键词: 电感耦合等离子体质谱 , 高纯钨 , 痕量杂质

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